FJD-11200AW槽式兆声波清洗机

FJD-11200AW槽式兆声波清洗机

随着半导体的集成度的提高，在硅晶片的清洗工序里，除掉亚微米脏物成了提高成品率的重要因素。利用高频超声波进行纯水的精密清洗能够符合这个要求。属于高频清洗的脉冲喷射清洗是在流水里加入了超声波，，适合于清洗晶片，液晶玻璃等。

兆声波清洗技术：

兆声波清洗不但保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足。兆声波清洗机的机理是由高能(850kHz)频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，大瞬时速度可达到30cm/s。因此，形成不了超声波清洗那样的气泡,而只

能以高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。

兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。目前兆声波清洗方法已成为抛

光片清洗的一种有效方法。  

硅晶片及液晶玻璃的超声波清洗：

对于硅晶片及液晶玻璃的超声波清洗，需要满足下面的条件。

1.不会损伤硅晶片

2.除掉亚微米脏物

3.不会发生脏物的再附着

因此，利用不会发生空化，但会产生高强度声压的高频超声波，而且不会发生脏物的再附着的流水式清洗是适合的。

清洗除掉微粒子

由于在流水里加上兆赫的高频超声波，被加速的水粒子能清洗除掉亚微米的粒子。

因为采用高频超声波，不用担心对硅晶片的损伤。

适合于半导体CMP研磨后，硬盘，硅晶片，砷化稼镜面抛光后，光盘原盘研磨后，成膜前的清洗等。