FJD-1600AW槽式兆声波清洗

型号：FJD-1600AW槽式兆声波清洗

振荡方式：用晶体管电路产生自激振荡

兆声功率：600W

振荡频率：1MHz950HZ

振荡器电源：AC200V、220V/6A

振荡器外形尺寸(mm)W×D×H：标准型。

使用液温范围：20～50℃

FJD-1600AW系列（兆声波清洗机）

超声波超精密清洗：

利用被超声波加速的水分子进行清洗 高频清洗自于加速度的超声波清洗是指被加速的水分子遇到工作，依靠水分子的冲击力使脏物从工件上剥离。频率越高效果越好，特别是对于附着力弱非常微小的脏物。加速度跟频率的2次方成比例，因而频率越高，波长越短，越适合于清洗微小的脏物。

硅片清洗中的超声波与兆声波技术：

超兆声波清洗是半导体工业中广泛应用的一种清洗方法,该方法的优点是:清洗效果好,操作简单,对于复杂的器件和容器也能清除,但该法也具有噪音较大、换能器易坏的缺点。

该法的清理原理如下：在强烈的超声波作用下(常用的超声波频率为20kHz到40kHz左右),液体介质内部会产生疏部和密部,疏部产生近乎真空的空腔泡,当空腔泡消失的瞬间,

其附近便 产生强大的局部压力,使分子内的化学键断裂，因此使硅片表面的杂质解吸。当超声波的频率和空腔泡的振动频率共振时，机械作用力达到大，泡内积聚的大量热能，使温度升高，促进了化学反应的发生。

超声波清洗的效果与超声条件（如温度、压力、超声频率、功率等）有关，而且提高超声波功率往往有利于清洗效果的提高，但对于小于1μm的颗粒的去除效果并不太好。该

法多用于清除硅片表面附着的大块污染和颗粒。